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产品介绍
用于硅太阳能电池的激光椭偏仪 紧凑型创新设备，旨在测量沉积在纹理硅（单硅和多硅）衬底上的抗反射涂层的厚度和光学常数。可以轻松实现优化的入射角（12-90°），以获得沉积在多晶结构晶圆上的薄膜的大信号。金字塔结构可以定向以获得正确的测量值，同时将样品牢固地保持在适当的位置。
性能特点
- 确定减反射涂层的薄膜厚度和光学常数（折射率和消光系数）
- 用于稳定性和自动校准的集成光学元件
- 微点聚焦光学元件，用于良好信号收集。
- 特别改装的样品架，适用于 156×156 mm 的样品池尺寸。
- 在线集成，实现快速过程控制。
- 符合智能软件标准。
- 样品对准：用于手动倾斜和高度调整的大信号检测。
技术参数
- 测量波长：632.8 nm（氦-Ne激光）
- 样品台：兼容 156 × 156 mm
- 测角仪：55° - 90° 手动控制
津公网安备12010102000946号
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津ICP备13001985号-1
